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第477章 新光刻机 上市?(第1/3页)

次日清晨,楚千澜驱车抵达深蓝半导体。

二号生产楼的45纳米光刻设备正有条不紊地运转,淡紫色的极紫外光束在晶圆表面勾勒出细密纹路,而隔壁的28纳米光刻产线则被安保守住了出入口,空气中弥漫着紧张而肃穆的气息。

王世杰、张北光早已等候在观察窗前,脸上难掩兴奋与忐忑。

看到楚千澜走来,两人立刻迎了上去。

“楚总,设备已完成最后校准,光源功率稳定在±0.2%,工作台定位精度达±0.001微米,各项参数均优于设计标准。”张北光递上数据平板,声音带着抑制不住的颤抖。

楚千澜目光扫过屏幕上跳动的实时数据,微微颔首:“开始流片吧,重点监测良率与稳定性。”

王世杰抬手示意,技术人员立即按下启动按钮。28纳米光刻设备发出低沉的嗡鸣,传送臂精准抓取硅晶圆,缓缓送入预处理模块。

极紫外光源投射出比45纳米设备更细密的光束,在晶圆表面刻画出复杂的电路纹路,每一道线条都锐利如刀,误差控制在纳米级。

观察窗前,众人屏息凝视。屏幕上的流片进度条缓慢推进,涂胶、曝光、显影、蚀刻等工序一气呵成。当第一片晶圆完成流片,被送入检测设备时,整个车间鸦雀无声。

“线宽均匀度误差±0.002微米,符合设计标准!”检测工程师高声汇报,声音打破了死寂,“关键电路无桥连、无锯齿,光刻质量完全达标!”

王世杰长舒一口气,脸上露出欣慰的笑容:“按这个进度,首批100片晶圆将在两小时内完成生产,良率初步预估能稳定在92%以上。”

楚千澜凝视着屏幕上平滑的参数曲线,眸色中闪过一丝赞许:“92%的良率,超出预期。后续28纳米制程的芯片,要转移到这条新产线上生产。”

虽说45纳米光刻机也能生产28纳米芯片,但通过多重曝光技术生产芯片,需要增加多道工序,良率自然会降低。

王世杰眼中闪过炽热的光芒,重重点头:“明白楚总!我们已经提前规划了产能分配,28纳米产线满负荷运转时,月产能可达3万片晶圆,完全能满足繁星科技的需求。”

张北光补充道:“这条产线的核心部件国产化率达到96%,只有极个别高精度传感器来自海外,而且我们已经启动了国产替代研发,预计一年内就能实现完全自主供应。”

《凭借外星科技,建立星海王朝》 第477章 新光刻机 上市?(第1/3页)

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